Для измерений линейных размеров элементов топологии и параметров микрорельефа поверхности различных объектов в твердой фазе и измерений массовой доли элементов в составе объектов методом рентгеновского микроанализа в режимах высокого вакуума и низкого вакуума без специальной подготовки непроводящих объектов, применяются в материаловедении, микроэлектронике и полупроводниковых технологиях, металлургии, геологии, биологии, медицине, а также в лабораториях промышленных предприятий, научно-исследовательских и учебных организаций.
